Nova alternativa de purificación de silicio
A tecnoloxía de fabricación de chips podería dar un paso adiante en breve, xa que algúns químicos xaponeses han mellorado o seu método de purificación do silicio. O silicio é un compoñente básico dos circuítos integrados, polo que o novo método pode ter un gran impacto económico na industria de chips.
O silicio extráese do sílice, que se atopa na area, é dicir, é un elemento moi abundante na natureza. Con todo, a extracción de silicio da area require temperaturas moi altas, o que encarece o proceso.
Seguindo a metodoloxía habitual, primeiro hai que fundir o sílice, quentándoo até uns 1.700 ºC. Pola contra, o método xaponés dos químicos consiste en mergullar sílice sólida no cloruro cálcico líquido, tras o cal procédese á licuefacción deste sal, para o que basta cunha temperatura duns 850ºC. A partir de aí, o proceso electrolítico convencional consiste en eliminar os iones de óxido de sílice dun electrodo metálico mediante a aplicación dunha corrente adecuada, quedando o silicio puro.
O silicio purificado adoita ser fráxil, polo que polo momento o método non é adecuado paira "renovar" os chips oxidados, pero os científicos propuxeron moitas outras aplicacións.
Zu idazle
Zientzia aldizkaria
